[发明专利]磁场生成装置及磁场生成装置的控制方法

说明书

本发明作为将光子束放射线照射到照射对象的体内的患部组织的放射线及磁场生成装置可以包括：放射线产生部，向所述照射对象照射光子束放射线，在被照射所述光子束放射线的所述照射对象的区域中诱导二次电子的产生；磁场产生部，包括设置为插入体内并形成低密度空间的插入结构体，并在所述二次电子所产生的区域中形成磁场；以及同步化控制部，基于所述光子束放射线所照射的区域与所述患部的位置关系来控制所述磁场的形成，以使所述二次电子中的至少一部分向所述低密度空间移动，并且使所述二次电子避开与所述患部组织相邻的正常组织而进行移动。

技术领域

本发明涉及一种磁场生成装置及磁场生成装置的控制方法，更详细地，涉及一种使放射线脉冲和磁场脉冲同步化，从而能够降低磁场产生部的运转量的磁场生成装置及磁场生成装置的控制方法。

背景技术

近来，随着老龄化时代的到来和国民生活水平的提高，对用于维持健康生活的疾病早期诊断和治疗的关注呈日益增加的趋势。尤其，放射线治疗装置作为在疾病的治疗中使用放射线的医疗装备，是通过使用诸如X射线和γ射线之类的光子或质子射线等的放射线来延缓或破坏诸如癌症之类的恶性肿瘤组织生长的治疗装置。

但是，在向人体的正常组织照射过多的剂量的具有高能量的放射线的情况下，正常组织细胞会坏死或导致遗传缺陷，还会引发癌症。在正常组织与肿瘤组织接近的情况下，由于放射线副作用会发生无法充分地照射放射线治疗剂量的情况。例如，人体内的黏膜组织作为对放射线最敏感的部位之一，当向黏膜结构传递一定剂量以上的放射线时，则会产生副作用。因此，在进行放射线治疗时，需要调节为使待破坏的肿瘤接收到充分的放射线，并最小化对肿瘤周围的正常组织的损伤。

对此，韩国授权专利第10-1689130号中公开了利用磁场的体内黏膜组织剂量控制光子束放射线治疗装置，但由于磁场产生部的尺寸过大，从而在商用化方面存在着限制。例如，以往在将放射线向患者的肿瘤部位进行照射的期间，磁场产生部也同样地持续生成磁场，其结果，磁场产生部的工作时间只能增加，这导致了产生磁场的电磁体的发热量及电压消耗量的增加。因此，为了抑制发热及充分的电压供应，将适用于磁场产生部的冷却装置和电源供应装置制作成较大的尺寸，从而存在限制患者所处的治疗空间乃至制约患者的顺利治疗的问题。

另外，在磁场产生部中频繁产生磁场的情况下，不仅存在由于外部泄露磁场而导致放射线治疗装置的误操作的问题，还存在影响构成放射治疗装置的线性加速器内的电子束的同时导致放射线剂量的变化的问题，或存在无法将光束准确地对准肿瘤组织而难以进行准确的放射线治疗的问题。

发明内容

技术问题

本发明所要解决的技术问题是提供一种在减少磁场产生部的运转率(dutyfactor)、发热量及磁场的外部泄漏量的同时使尺寸小型化的磁场生成装置。

此外，本发明所要解决的技术问题是提供一种将磁场产生部布置于磁场屏蔽部的内部区域，从而能够有效地抑制磁场对线性加速器、电子枪、多叶准直器等的影响的磁场生成装置。

本发明所要解决的技术问题并不局限于以上提及的技术问题，本领域技术人员可以通过下面的记载而明确理解未提及的其他技术问题。

技术方案

根据本发明的一实施例的放射线及磁场生成装置，作为将光子束放射线照射到照射对象的体内的患部组织的放射线及磁场生成装置可以包括：放射线产生部，向所述照射对象照射光子束放射线，在被照射所述光子束放射线的所述照射对象的区域中诱导二次电子的产生；磁场产生部，包括设置为插入体内并形成低密度空间的插入结构体，并在所述二次电子所产生的区域中形成磁场；以及同步化控制部，基于所述光子束放射线所照射的区域与所述患部的位置关系来控制所述磁场的形成，以使所述二次电子中的至少一部分向所述低密度空间移动，并且使所述二次电子避开与所述患部组织相邻的正常组织而进行移动，其中，所述插入结构体的形态可以基于所述光子束放射线所照射的区域与所述患部的位置关系而预先确定。