[发明专利]PVD装置在审

专利信息
申请号: 202180030110.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN115461489A 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 清野拓哉;小田岛保志;渡边直树;户岛宏至;品田正人;宫下哲也 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/35
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 宋魏魏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及PVD装置。PVD装置具备:腔室、多个载置台、第一靶保持部、电力供给机构以及屏蔽件。多个载置台设置在腔室内,并分别能够在上表面载置至少一个基板。第一靶保持部能够保持靶,该靶暴露在腔室内的空间,并针对一个载置台设置至少一个。电力供给机构经由第一靶保持部向靶供给电力。屏蔽件设置于腔室内,一部分配置在多个载置台中的第一载置台与第二载置台之间、以及第一载置台上的第一处理空间与第二载置台上的第二处理空间之间。
搜索关键词: pvd 装置
【主权项】:
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