[发明专利]微波处理装置、以及微波处理方法在审

专利信息
申请号: 202180026039.9 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN115362757A 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 塚原保德 申请(专利权)人: 微波化学有限公司
主分类号: H05B6/64 分类号: H05B6/64
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 温剑;陈英俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: [技术问题]本发明提供一种微波处理装置,即使圆筒状形状的空腔的轴方向上的长度较长,也能够在要照射微波的部位,适当地向微波的照射对象物照射微波。[解决方案]微波处理装置(1)具备:圆筒状形状的空腔(11),可旋转地被支承,在内部具有可放入微波的照射对象物的空间,并且在轴方向上的一部分的区域具有微波的一个或者多个透过区域;旋转驱动部,使空腔(11)围绕轴旋转;罩部件(13),在微波的一个或者多个透过区域的外周侧,以在整个圆周方向上覆盖空腔(11)的方式设置,形成微波的波导,并且固定在基座侧;以及微波发生器(14)。来自微波发生器(14)的微波经由波导从空腔(11)的圆周侧面导入至内部的空间。
搜索关键词: 微波 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
暂无信息
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