[发明专利]阴离子交换膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202180023214.9 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN115298249A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 冈村高明;岸野刚之;福田宪二 申请(专利权)人: 株式会社亚斯通
主分类号: C08J5/22 分类号: C08J5/22;B01J41/13;B01J47/12;C02F1/469;C08L23/00;C08F212/14;C08F212/08;C08F212/36
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 李雪;姚开丽
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的阴离子交换膜是包括由聚烯烃类织布构成的基材、和阴离子交换树脂的阴离子交换膜,在25℃下使用0.5M的食盐水测量出的电阻为1.0Ω·cm2以上2.5Ω·cm2以下,破裂强度为0.7MPa以上1.2MPa以下,使用0.1MPa的加压水测量出的渗水量为300ml/(m2·hr)以下,上述基材的厚度为90μm以上160μm以下,上述基材的开口率为35%以上55%以下。
搜索关键词: 阴离子 交换 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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