[发明专利]阴离子交换膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202180023214.9 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN115298249A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 冈村高明;岸野刚之;福田宪二 申请(专利权)人: 株式会社亚斯通
主分类号: C08J5/22 分类号: C08J5/22;B01J41/13;B01J47/12;C02F1/469;C08L23/00;C08F212/14;C08F212/08;C08F212/36
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 李雪;姚开丽
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 阴离子 交换 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种阴离子交换膜,其包括由聚烯烃类织布构成的基材、和阴离子交换树脂,其特征在于:

在25℃下使用0.5M的食盐水测量出的电阻为1.0Ω·cm2以上2.5Ω·cm2以下,

破裂强度为0.7MPa以上1.2MPa以下,

使用0.1MPa的加压水测量出的渗水量为300ml/(m2·hr)以下,

所述基材的厚度为90μm以上160μm以下,

所述基材的开口率为35%以上55%以下。

2.根据权利要求1所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述基材由聚乙烯类织布构成。

3.根据权利要求1或2所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述基材由聚烯烃单丝织布构成。

4.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的阴离子交换膜,其特征在于:

将具有阳极(Pt板)(1.0mol/L的硫酸水溶液)/阴离子交换膜/(0.25mol/L的硫酸水溶液)阴极(Pt板)这样结构的双室电池作为电解槽,在溶液温度25℃下以电流密度10A/dm2的条件通电1小时后,以硫酸根离子为基准测量出的电流效率为40%以上。

5.根据权利要求1到4中任一项权利要求所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述阴离子交换树脂中含有被极性基改性后的改性苯乙烯类热塑性树脂弹性体。

6.根据权利要求5所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述极性基为酸性基或酸酐基。

7.根据权利要求6所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述酸性基为羧基,酸酐基为羧酸酐基。

8.根据权利要求6或7所述的阴离子交换膜,其特征在于:

被所述酸性基或酸酐基改性后的所述苯乙烯类热塑性树脂弹性体为聚苯乙烯-聚共轭二烯烃-聚苯乙烯共聚物或者其氢化物的被所述酸性基改性后的改性体。

9.根据权利要求8所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述聚苯乙烯-聚共轭二烯烃-聚苯乙烯共聚物为聚苯乙烯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物。

10.根据权利要求1到9中任一项权利要求所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述阴离子交换树脂为聚苯乙烯类阴离子交换树脂。

11.根据权利要求1到10中任一项权利要求所述的阴离子交换膜,其特征在于:

所述阴离子交换树脂具有交联结构。

12.一种阴离子交换膜的制造方法,其特征在于:

所述阴离子交换膜的制造方法包含浸渍工序和共聚的工序,

在所述浸渍工序中,向由聚烯烃类织布构成的基材浸渍阴离子交换树脂形成用的聚合性组合物,所述阴离子交换树脂形成用的聚合性组合物含有单体成分和聚合引发剂,所述单体成分包含具有能够导入阴离子交换基的官能团或阴离子交换基的单体和交联性单体,所述基材的厚度为90μm以上160μm以下,所述基材的开口率为35%以上55%以下,

在所述共聚的工序中,在所述浸渍工序之后,使所述单体成分在40℃以上且低于80℃的温度下共聚。

13.根据权利要求12所述的阴离子交换膜的制造方法,其特征在于:

所述基材由聚乙烯类织布构成。

14.根据权利要求12或13所述的阴离子交换膜的制造方法,其特征在于:

所述阴离子交换树脂形成用的聚合性组合物含有所述聚合引发剂,该聚合引发剂的用于得到半衰期为10小时的分解温度为90℃以下。

15.根据权利要求12到14中任一项权利要求所述的阴离子交换膜的制造方法,其特征在于:

所述具有能够导入阴离子交换基的官能团或阴离子交换基的单体是具有能够导入阴离子交换基的官能团或阴离子交换基的苯乙烯类单体。

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