[发明专利]检查装置在审
| 申请号： | 202180015828.2 | 申请日： | 2021-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN115298795A | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | M·J-J·维兰德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/28 | 分类号： | H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁;杨飞 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种带电粒子评估工具包括多个射束列。每个射束列包括带电粒子射束源(201)，被配置为发射带电粒子；多个会聚透镜(231)，被配置为将从带电粒子射束源发射的带电粒子(211、212、213)形成为多个带电粒子射束；会聚透镜被配置为将多个带电粒子射束聚焦到相应中间焦点(233)；以及多个物镜(234)，被配置为处于所述中间焦点的下游，每个物镜被配置为将多个带电粒子射束中的一者投射到样品上；以及像差校正器(235)，被配置为减小多个带电粒子射束中的一个或多个像差。射束列彼此相邻布置，以便将带电粒子射束投射到样品的相邻分区上。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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