[发明专利]衬底台和处置衬底的方法在审
| 申请号： | 202180013458.9 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN115066656A | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | N·坦凯特;K·G·温克尔斯;M·B·I·哈贝茨 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/687 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及用于光刻的衬底台和处置衬底(W)的方法。在一种布置中，衬底台(WT)包括一个或多个隔膜(8)。致动系统(4)使每个隔膜变形以改变隔膜的一部分的高度。在另一布置中，衬底台包括一个或多个隔膜以及将衬底夹持到衬底台的夹持系统，其中夹持通过将衬底压抵隔膜而使每个隔膜变形。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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