[发明专利]衬底台和处置衬底的方法

权利要求书

1.一种衬底台，被配置为在光刻过程期间支撑衬底，所述衬底台包括：

一个或多个隔膜；以及

致动系统，所述致动系统被配置为使每个隔膜变形以改变所述隔膜的一部分的高度。

2.根据权利要求1所述的衬底台，其中每个隔膜被配置为使得当所述衬底由所述衬底台支撑时，所述隔膜的所述一部分的高度的所述改变导致被施加在所述衬底台与所述衬底之间的力的空间分布的改变。

3.根据权利要求1或2所述的衬底台，其中每个隔膜被配置为使得，当所述衬底由所述衬底台支撑时，所述隔膜的所述一部分的高度的所述改变导致：

接触元件从不与所述衬底接触的位置移动到与所述衬底接触的位置；或者

接触元件从与所述衬底接触的位置移动到不与所述衬底接触的位置。

4.根据权利要求3所述的衬底台，其中所述接触元件包括所述隔膜的所述一部分。

5.根据权利要求3所述的衬底台，其中所述接触元件包括被附接至所述隔膜的刚性接触构件，并且所述隔膜被配置为使得所述隔膜的所述一部分的高度的所述改变导致所述接触构件的高度的改变。

6.根据权利要求5所述的衬底台，其中刚性邻接构件被设置在所述隔膜下方，所述邻接构件被配置为使得所述隔膜的所述一部分的降低导致所述接触构件由所述邻接构件从下方被机械地支撑。

7.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中：

所述衬底台包括多个刚性突节，所述多个刚性突节被配置为接触所述衬底；并且

所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜被形成在所述突节中的相应一个突节内。

8.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中：

所述衬底台包括多个刚性突节，所述多个刚性突节被配置为接触所述衬底；并且

所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜被形成在所述突节外部的区域中。

9.根据权利要求7或8所述的衬底台，其中所述隔膜由与所述刚性突节相同的材料形成。

10.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中当从上方查看时，所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜具有形成中空闭环的形状。

11.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜包括多个层，并且最上层的材料的刚度比所述最上层下方的至少一个层的材料低。

12.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中所述致动系统被配置为通过改变与所述隔膜接触的流体的压力来使所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜变形。

13.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中所述致动系统被配置为通过驱动与所述隔膜接触的致动元件的移动来使所述隔膜中的一个或多个中的每个隔膜变形。

14.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中所述致动系统被配置为使所述隔膜中的一个或多个的集合中的每个隔膜独立于其他隔膜中的一个或多个而变形。

15.根据前述权利要求任一项所述的衬底台，其中所述致动系统被配置为将衬底夹持到所述衬底台，所述衬底的所述夹持通过将所述衬底压向所述隔膜而导致每个隔膜的所述变形。