[发明专利]一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液有效
| 申请号： | 202180007457.3 | 申请日： | 2021-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN114929836B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 高小云;刘兵 | 申请（专利权）人： | 晶瑞电子材料股份有限公司;晶瑞湖北微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C23F1/18;H01L21/306 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 向亚兰 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，该蚀刻液包含氢氟酸、氟化铵、渗透剂和水，以及复合改性剂，该复合改性剂由投料摩尔比为2‑8∶1的式(Ⅰ)所示化合物、式(Ⅱ)所示化合物构成；N(C |
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| 搜索关键词： | 一种 非金属 氧化物 缓冲 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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