[发明专利]掩模版、曝光方法和触控面板在审
| 申请号： | 202180000490.3 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN114127631A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 雷杰;郑启涛;许邹明;吴信涛;刘纯建;田健 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;张蓉 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本公开提供了一种掩模版(13)、曝光方法和触控面板(170)。掩模版(13)包括第一区域(130’)和第二区域(130)，第一区域(130’)位于第二区域(130)的至少一侧，其中，第一区域(130’)包括第一遮光条(131”)和第二遮光条(131’)，第二区域(130)包括第三遮光条(131)，第一遮光条(131”)、第二遮光条(131’)和第三遮光条(131)的延伸方向相同，第二遮光条(131’)位于第一遮光条(131”)和第三遮光条(131)之间，第一遮光条(131”)、第二遮光条(131’)和第三遮光条(131)配置为阻挡光线，多个第一遮光条(131”)、多个第二遮光条(131’)和多个第三遮光条(131)包围形成的间隙允许光线通过，第一遮光条(131”)在第一方向上的宽度大于第二遮光条(131’)在第一方向上的宽度，且第二遮光条(131’)在第一方向上的宽度大于第三遮光条(131)在第一方向上的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 曝光 方法 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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