[实用新型]一种光刻机用废料清理设备有效
| 申请号： | 202123171856.X | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN216679350U | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 胡德立 | 申请（专利权）人： | 江苏微影半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;F26B21/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 224000 江苏省盐城*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光刻机用废料清理设备，包括防尘风机，所述防尘风机的输出端与连管的一端连通固定，所述连管上滑动设置有连板，所述连板的背离连管的一端设置有伺服电机，所述伺服电机的输出端穿过连板并与三角板固定连接，所述热风管、第一清洁管以及第二清洁管穿过三角板的一端与连管的一端相配合，所述防尘风机的一侧端面设置有安装板，所述安装板上设置有液压杆，所述液压杆的输出端与连板的一侧端面固定连接,与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：避免了因水渍附着在曝光平台上，无法清理，导致后续的光刻失焦，影响对芯片的光刻作业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 废料 清理 设备 | ||
【主权项】：
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