[实用新型]一种光刻机用废料清理设备有效
申请号: | 202123171856.X | 申请日: | 2021-12-16 |
公开(公告)号: | CN216679350U | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 胡德立 | 申请(专利权)人: | 江苏微影半导体有限公司 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;F26B21/00;G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 224000 江苏省盐城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 废料 清理 设备 | ||
本实用新型提供一种光刻机用废料清理设备,包括防尘风机,所述防尘风机的输出端与连管的一端连通固定,所述连管上滑动设置有连板,所述连板的背离连管的一端设置有伺服电机,所述伺服电机的输出端穿过连板并与三角板固定连接,所述热风管、第一清洁管以及第二清洁管穿过三角板的一端与连管的一端相配合,所述防尘风机的一侧端面设置有安装板,所述安装板上设置有液压杆,所述液压杆的输出端与连板的一侧端面固定连接,与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:避免了因水渍附着在曝光平台上,无法清理,导致后续的光刻失焦,影响对芯片的光刻作业。
技术领域
本实用新型是一种光刻机用废料清理设备,属于光刻机领域。
背景技术
光刻机被广泛用于芯片制造领域,一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序,光刻的意思是用光来制作一个图形工艺,在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程,光刻机在使用后经常会有胶水附着在曝光平台上,若不对附着在曝光平台上的胶水及时清理,在后续芯片生产的的过程中,容易发生失焦,导致图形变形,故而需要对光刻机中残余的废料进行清理。
传统的废料清理设备在对光刻机清理时,大多只能对曝光平台上的灰尘颗粒进行吹扫,然而当曝光平台上存在水渍时,传统的废料清理设备无法将水渍吹扫,导致水渍滞留在曝光台上,影响后续的光刻操作,因此急需一种新的结构来解决该问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种光刻机用废料清理设备,以解决上述背景技术中提出的无法将附着在曝光平台上端面的水渍清理的问题。
为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种光刻机用废料清理设备,包括防尘风机,所述防尘风机的输出端与连管的一端连通固定,所述连管上滑动设置有连板,所述连板的背离连管的一端设置有伺服电机,所述伺服电机的输出端穿过连板并与三角板固定连接,所述三角板上设置有三个安装孔,所述三角板通过安装孔分别与热风管、第一清洁管以及第二清洁管相连接,所述热风管、第一清洁管以及第二清洁管穿过三角板的一端与连管的一端相配合,所述防尘风机的一侧端面设置有安装板,所述安装板上设置有液压杆,所述液压杆的输出端与连板的一侧端面固定连接。
进一步地,所述连管上对称设置两个弓形条,所述弓形条与连板滑动连接。
进一步地,所述热风管、第一清洁管以及第二清洁管上均设置有安装管,所述安装管与连管相连通。
进一步地,所述连管的一侧端面设置有密封环槽,所述密封环槽内部设置有密封垫环,所述密封环槽与安装管相插装,且安装管的一侧端面与密封垫环的一侧端面相抵接。
进一步地,所述防尘风机的一侧端面设置有连接架,所述连接架上设置有连接转轴,所述连接架通过连接转轴与安装架固定连接,所述连接转轴的一端设置有从动齿轮,所述从动齿轮与主动齿轮相啮合,且主动齿轮与调节电机的输出端固定连接。
进一步地,所述安装架上设置有用于确定安装架安装位置的定位板。
本实用新型的有益效果:通过在防尘风机输出端设置的连管上设置有连板,利用连板上设置的伺服电机的输出端与三角板固定连接,通过三角板上设置的热风管、第一清洁管以及第二清洁管,方便将曝光平台上端面的水渍气化后排出,避免了因水渍附着在曝光平台上,无法清理,导致后续的光刻失焦,影响对芯片的光刻作业。
通过设置调节电机,利用调节电机上设置的主动齿轮与设置在连接转轴上的从动齿轮相啮合,由于安装架通过连接转轴与连接架转动连接,在调节电机、主动齿轮以及从动齿轮的作用下,实现了的风机、热风管、第一清洁管以及第二清洁管的角度调节,进而,增加了清洁范围,实用性好。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
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