[实用新型]水射流辅助激光蚀刻加工单晶硅装置有效
申请号: | 202122644553.9 | 申请日: | 2021-11-01 |
公开(公告)号: | CN215941865U | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 张赛博;赵俊淞;李小海 | 申请(专利权)人: | 佳木斯大学 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 南京鼎傲知识产权代理事务所(普通合伙) 32327 | 代理人: | 胡光金 |
地址: | 154007 黑*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本实用新型公开了水射流辅助激光蚀刻加工单晶硅装置,包括主喷射管,主喷射管的外侧安装有压力表,主喷射管的进水端连接有脉冲阻尼器,脉冲阻尼器的进水端连接有分流端口,分流端口的进水端连接有进水软管,主喷射管的外侧套接有固定环,固定环的外侧连接有连接杆,连接杆的一端转动连接有喷头夹盘,喷头夹盘的内侧开设有卡接槽,卡接槽的内侧嵌入有喷头,通过将限位螺帽拧松,在连接杆的外侧快速的转动喷头夹盘,将需要使用的喷头拧紧到螺纹连接槽的内侧,从而完成替换,替换过程简单方便,从而可以使不同的待蚀刻物使用合适规格的喷头进行水射辅助,不仅提高了工作效率,更加提升了激光蚀刻的成功率。 | ||
搜索关键词: | 水射流 辅助 激光 蚀刻 加工 单晶硅 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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