[实用新型]一种单面光刻机有效
| 申请号： | 202122620444.3 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN216622958U | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 张其文;扶小莲;刘阳波;陈正洪 | 申请（专利权）人： | 四川鸿源鼎芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙) 51323 | 代理人： | 左正超 |
| 地址： | 610199 四川省成都市龙泉*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种单面光刻机，包括机架，机架上安装有升降单元、曝光台和曝光机构，升降单元位于曝光台下方，升降单元的自由端安装有XYY平台，XYY平台的自由端上滑动安装有承片台；曝光机构位于曝光台上方，曝光台上设有XYZ三轴运动机构，XYZ三轴运动机构上设有摄像头。使用时人工将硅片放置在承片台并推入，XYY平台实现自动找平，然后升降单元驱动XYY平台上升到位后，摄像头通过图像识别确定对位成功后，曝光机构进行曝光，曝光结束后升降单元驱动XYY平台下降归位，人工将承片台从XYY平台上拉出，将曝光后的硅片取出即可。该单面光刻机可以实现半自动化操作，有效提高工作效率，保证操作的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单面 光刻 | ||
【主权项】：
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