[实用新型]一种单面光刻机有效
申请号: | 202122620444.3 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN216622958U | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 张其文;扶小莲;刘阳波;陈正洪 | 申请(专利权)人: | 四川鸿源鼎芯科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙) 51323 | 代理人: | 左正超 |
地址: | 610199 四川省成都市龙泉*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单面 光刻 | ||
本实用新型属于光刻机技术领域,公开了一种单面光刻机,包括机架,机架上安装有升降单元、曝光台和曝光机构,升降单元位于曝光台下方,升降单元的自由端安装有XYY平台,XYY平台的自由端上滑动安装有承片台;曝光机构位于曝光台上方,曝光台上设有XYZ三轴运动机构,XYZ三轴运动机构上设有摄像头。使用时人工将硅片放置在承片台并推入,XYY平台实现自动找平,然后升降单元驱动XYY平台上升到位后,摄像头通过图像识别确定对位成功后,曝光机构进行曝光,曝光结束后升降单元驱动XYY平台下降归位,人工将承片台从XYY平台上拉出,将曝光后的硅片取出即可。该单面光刻机可以实现半自动化操作,有效提高工作效率,保证操作的准确性。
技术领域
本实用新型属于光刻机技术领域,具体涉及一种单面光刻机。
背景技术
光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序,它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程,被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。现有的光刻机自动化程度不高,需要大量的人工操作,导致光刻效率低。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此,本实用新型目的在于提供一种单面光刻机。
本实用新型所采用的技术方案为:
一种单面光刻机,包括机架,机架上安装有升降单元、曝光台和曝光机构,升降单元位于曝光台下方,升降单元的自由端安装有XYY平台,XYY平台的自由端上滑动安装有承片台;曝光机构位于曝光台上方,曝光台上设有XYZ三轴运动机构,XYZ三轴运动机构上设有摄像头。
优选地,所述XYZ三轴运动机构包括X轴直线滑台、安装在X轴直线滑台的自由端上的Y轴直线滑台、安装在Y轴直线滑台的自由端上的Z轴直线滑台、安装在Z轴直线滑台的固定端上的安装座,安装座上安装有支撑杆,摄像头安装在支撑杆上。
优选地,所述安装座上可拆卸的安装有盖板,支撑杆位于盖板和安装座之间。
优选地,所述XYY平台上设有用于感应承片台的传感器。
优选地,所述曝光机构上罩设有保护罩。
优选地,所述机架包括多根立柱,立柱的底部设有带自锁的万向轮。
本实用新型的有益效果为:
本实用新型所提供的一种单面光刻机,使用时人工将硅片放置在承片台并推入,XYY平台实现自动找平,然后升降单元驱动XYY平台上升到位后,摄像头通过图像识别确定对位成功后,曝光机构进行曝光,曝光结束后升降单元驱动XYY平台下降归位,人工将承片台从XYY平台上拉出,将曝光后的硅片取出即可。该单面光刻机可以实现半自动化操作,有效提高工作效率,保证操作的准确性。
附图说明
图1是本实用新型单面光刻机的正视图。
图2是本实用新型单面光刻机的俯视图。
图3是本实用新型单面光刻机的立体图。
图4是本实用新型XYZ三轴运动机构的结构示意图。
图中:1-机架;2-升降单元;3-曝光台;4-XYY平台;5-承片台;6-XYZ三轴运动机构;61-X轴直线滑台;62-Y轴直线滑台;63-Z轴直线滑台;64-安装座;65-支撑杆;66-盖板;7-摄像头;8-保护罩;9-万向轮。
具体实施方式
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