[实用新型]一种晶体真空镀膜器设备

摘要

本实用新型公开了一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱、支撑机构，所述镀膜箱的后内侧面活动连接有转杆，所述转杆的侧表面固定连接有镀膜头，所述镀膜箱的内顶部固定连接有液压缸，所述液压缸的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离液压缸的一端固定连接有齿板，所述转杆的侧表面固定连接有齿环，所述镀膜箱的上表面固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有第一旋转轴。本实用新型，通过设置连接软管、齿板、齿环，能够对镀膜头进行角度调整，在对晶片进行镀膜时可以更加地快速，提高镀膜的速率，通过设置第一旋转轴、转环、第二旋转轴，能够使晶片在镀膜时镀膜的更加均匀，提高晶片的镀膜效果。