[实用新型]晶圆测厚仪有效

专利信息
申请号: 202121584122.1 申请日: 2021-07-12
公开(公告)号: CN215572678U 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 米辉;张剑胜;鲍贵军 申请(专利权)人: 上海技垚科技有限公司
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06;H01L21/67;H01L21/66
代理公司: 上海中外企专利代理事务所(特殊普通合伙) 31387 代理人: 孙益青
地址: 201207 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种晶圆测厚仪,其包括:基座;基座顶部设有放置平台和支撑架;支撑架上安装有触摸显示器和上电容传感器;基座内安装有下电容传感器和抽真空装置;且下电容传感器位于上电容传感器的正下方;放置平台表面设有1个测试孔和至少3个真空吸附孔;测试孔位于下电容传感器的正上方及上电容传感器的正下方;真空吸附孔环绕测试孔均匀分布,且各真空吸附孔通过环形气道相互导通;且真空吸附孔与真空接入嘴连接;真空接入嘴通过管路与抽真空装置导通;真空吸附孔与真空接入嘴的衔接处还设有密封盖。本申请结构简单,易于实现。能够克服晶圆边沿翘曲带来的检测误差,实现对晶圆厚度在亚微米级别的精确测量。
搜索关键词: 测厚仪
【主权项】:
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