[实用新型]电磁控空间光调制器、光源装置、激光垂准仪有效

专利信息
申请号: 202121570959.0 申请日: 2021-07-12
公开(公告)号: CN215117057U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 吴志洋;郭素阳;高迎可;杨正凡;徐胜;刘玲玉 申请(专利权)人: 中交天和机械设备制造有限公司
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09;G02B27/09;G01C15/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 吴芳
地址: 215500 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种电磁控空间光调制器、光源装置、激光垂准仪,电磁控空间光调制器包括透镜、导电层、电调制层、磁调制层,透镜为直三棱柱,导电层涂覆在通光区域所处的三棱柱的两个侧面的表面;电调制层由拓扑半金属材料制成,电调制层涂覆在导电层表面,电调制层的边缘还涂覆有电极层,电极层与导电层分别与外部电源连接以形成电调制回路;磁调制层由磁性半导体材料制成,磁调制层涂覆在电调制层表面,在外部磁场发生器的作用下,磁调制层用于对激光光束进行磁调制。本实用新型提供的技术方案利用电场和磁场改变拓扑半金属和磁性半导体材料中的载流子浓度,可以调控光场中不同空间位置的透过率,产生可主动调制的结构光场,调制速度快。
搜索关键词: 电磁 空间 调制器 光源 装置 激光 垂准仪
【主权项】:
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