[实用新型]电磁控空间光调制器、光源装置、激光垂准仪有效

专利信息
申请号: 202121570959.0 申请日: 2021-07-12
公开(公告)号: CN215117057U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 吴志洋;郭素阳;高迎可;杨正凡;徐胜;刘玲玉 申请(专利权)人: 中交天和机械设备制造有限公司
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09;G02B27/09;G01C15/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 吴芳
地址: 215500 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电磁 空间 调制器 光源 装置 激光 垂准仪
【权利要求书】:

1.一种电磁控空间光调制器,其特征在于,用于调制外部激光光束,所述电磁控空间光调制器包括:

透镜,所述透镜为直三棱柱,所述三棱柱具有通光区域,所述通光区域位于所述三棱柱的其中两个侧面交汇处的中心位置;

导电层,其由导电材料制成,所述导电层涂覆在所述通光区域所处的三棱柱的两个侧面的表面;

电调制层,其由拓扑半金属材料制成,所述电调制层涂覆在所述导电层表面,所述电调制层的边缘还涂覆有电极层,所述电极层与所述导电层分别与外部电源连接以形成电调制回路,所述电调制回路用于对所述激光光束进行电调制;

磁调制层,其由磁性半导体材料制成,所述磁调制层涂覆在所述电调制层表面,在外部磁场发生器的作用下,所述磁调制层用于对所述激光光束进行磁调制。

2.如权利要求1所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,还包括涂覆在所述磁调制层上的起保护作用的保护层。

3.如权利要求2所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,所述透镜由K9玻璃材料制成,所述导电层为氧化铟硒薄膜,所述电调制层为砷化钽薄膜或者汞铬硒薄膜,所述磁调制层为掺钴二维钛氧化物薄膜,所述保护层为氮化硼薄膜。

4.如权利要求1所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,所述外部电源为0-5V的直流电源。

5.如权利要求1所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,所述外部磁场发生器为0-0.1nT的电磁铁。

6.如权利要求1所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,所述直三棱柱的底面为等腰三角形,所述等腰三角形的顶角为150°。

7.如权利要求1所述的电磁控空间光调制器,其特征在于,所述通光区域为半径为2mm的圆形。

8.一种光源装置,其特征在于,包括依序设置的激光发生器、扩束器、如权利要求1-7中任意一项所述的电磁控空间光调制器、缩束器,其中,所述激光发生器用于发射激光光束,所述扩束器用于扩大所述激光光束的直径以避免所述激光光束聚焦于所述电磁控空间光调制器,所述电磁控空间光调制器用于调制经所述扩束器扩束后的激光光束,所述缩束器用于缩小调制后的激光光束的直径。

9.如权利要求8所述的光源装置,其特征在于,还包括与所述缩束器配合的准直镜,所述准直镜用于维持所述激光光束的准直性。

10.一种激光垂准仪,其特征在于,包括如权利要求8所述的光源装置以及壳体,所述壳体内设有支架,所述支架用于放置所述光源装置。

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