[实用新型]一种硅片清扫装置有效
| 申请号： | 202121490798.4 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN215354851U | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 高如山 | 申请（专利权）人： | 天津西美科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B1/02;B08B5/04 |
| 代理公司： | 天津展誉专利代理有限公司 12221 | 代理人： | 陈欣 |
| 地址： | 300000 天津市河东区大*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及硅片加工，尤其涉及一种硅片清扫装置。一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触。本实用新型的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清扫 装置 | ||
【主权项】：
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