[实用新型]一种硅片清扫装置

说明书

本实用新型涉及硅片加工，尤其涉及一种硅片清扫装置。一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触。本实用新型的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工，尤其涉及一种硅片清扫装置。

背景技术

在半导体生产加工中，需要对硅片表面的细小杂质进行清扫。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种硅片清扫装置。

本实用新型是通过以下技术方案予以实现：

一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；

所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；

所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触；

所述吸尘机构包括风机、吸尘口、吸尘通道和集尘盒，所述吸尘口位于固定刷与滚动刷相接处，所述吸尘通道包括竖直通道和水平通道，所述竖直通道的上端连通吸尘口，所述竖直通道的下端连通集尘盒，所述水平通道的一端连通竖直通道，所述水平通道的另一端连通风机的进风口，所述竖直通道和水平通道相接处设有导板，导板向下方的集尘盒倾斜。

根据上述技术方案，优选地，所述传送带包括直线传送带和拐弯传送带，两段所述直线传送带之间通过拐弯传送带连接。

根据上述技术方案，优选地，所述传送带设有夹紧凸块。

本实用新型的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。硅片放置在传送皮带上，传动辊带动传送皮带移动，硅片随着传动皮带移动。硅片的上表面与滚动刷接触，主动辊带动滚动刷转动，滚动刷与传送皮带的滚动方向相反，滚动刷将硅片上的杂质擦除。滚动刷的下游与固定刷接触，将粘附在滚动刷上的杂质分离。风机启动，将吸尘通道内的空气抽出，使吸尘通道内部的气压降低，吸尘口将滚动刷擦除的杂质吸入，吸入的杂质被导板阻挡，落入集尘盒中。

附图说明

图1示出了本实用新型的实施例的主视结构示意图。

图2示出了本实用新型的实施例的传送带俯视结构示意图。

图3示出了本实用新型的实施例的夹紧凸块结构示意图。

图中：1.传送辊，2.传送皮带，3.主动辊，4.从动辊，5.滚动刷，6.固定刷，7.风机，8.吸尘口，9.集尘盒，10.竖直通道，11.水平通道，12.导板，13.直线传送带，14.拐弯传送带，15.夹紧凸块。

具体实施方式

为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

如图所示，本实用新型一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；

传送带包括多个传送辊1和传送皮带2；

清洁机构包括主动辊3、从动辊4、滚动刷5和固定刷6，主动辊与从动辊平行，滚动刷为环状带，主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，滚动刷位于传送皮带的上方，滚动刷与传送皮带平行，固定刷与滚动刷的下游端接触；