[实用新型]开合式遮蔽构件及具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积装置有效
| 申请号： | 202121454781.3 | 申请日： | 2021-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN216237258U | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 林俊成;沈祐德 | 申请（专利权）人： | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积装置，主要包括一反应腔体、一承载盘及一开合式遮蔽构件，其中部分开合式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。开合式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一遮蔽板及第二遮蔽板，并用以驱动第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行沉积制程时，驱动装置会带动第一及第二遮蔽板相互远离，并切换到开启状态。在进行清洁制程时，驱动装置则会带动第一及第二遮蔽板相互靠近，并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘，避免在清洁薄膜沉积装置的过程中污染承载盘。 | ||
| 搜索关键词： | 合式 遮蔽 构件 具有 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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