[实用新型]一种刻蚀均匀的磁控溅射台

摘要

本实用新型公开了一种刻蚀均匀的磁控溅射台，包括工作台，所述工作台的顶部焊接有溅射壳，所述溅射壳的顶部通过螺栓连接有磁控溅射机主体。本实用新型通过工作台、溅射壳、磁控溅射机主体、外壳、电动推杆、移动板、支撑板、支撑柱、底座、安装座、步进电机、主动齿轮、从动齿轮、正反螺杆、螺套、移动杆、固定柱、卡板、滑轮、轴承座、滑槽、滑块、滑杆、滑套和弹簧的相互配合，达到了刻蚀均匀效果好的优点，解决了现有的磁控溅射台，刻蚀均匀效果差，当人们在使用磁控溅射台时，无法对半导体材料进行有效的夹持固定，容易造成其出现松动脱落，且在刻蚀过程中，无法对半导体材料进行平稳升降，影响刻蚀质量，不方便人们使用的问题。