[实用新型]一种刻蚀均匀的磁控溅射台

权利要求书

1.一种刻蚀均匀的磁控溅射台，包括工作台（1），其特征在于：所述工作台（1）的顶部焊接有溅射壳（2），所述溅射壳（2）的顶部通过螺栓连接有磁控溅射机主体（3），所述磁控溅射机主体（3）的输出端贯穿至溅射壳（2）的内腔，所述工作台（1）内腔底部的两侧均通过螺栓连接有外壳（4），所述工作台（1）内腔底部的中心处通过螺栓连接有电动推杆（5），所述电动推杆（5）的顶部焊接有移动板（6），所述移动板（6）的两侧均焊接有支撑板（7），所述支撑板（7）的外侧贯穿至外壳（4）的内腔，所述支撑板（7）的顶部通过螺栓连接有支撑柱（8），所述支撑柱（8）的顶部贯穿至溅射壳（2）的内腔并通过螺栓连接有底座（9），所述底座（9）内腔的底部通过螺栓连接有安装座（10），所述安装座（10）的顶部焊接有步进电机（11），所述步进电机（11）的输出端通过联轴器连接有主动齿轮（12），所述主动齿轮（12）的表面啮合有从动齿轮（13），所述从动齿轮（13）的内腔套接有正反螺杆（14），所述正反螺杆（14）表面的两侧均螺纹连接有螺套（15），所述螺套（15）的顶部焊接有移动杆（16），所述移动杆（16）的顶部贯穿至底座（9）的顶部，所述移动杆（16）的内侧通过螺栓连接有固定柱（17），所述固定柱（17）的内侧通过螺栓连接有卡板（18）。

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀均匀的磁控溅射台，其特征在于：所述底座（9）的两侧均通过螺栓连接有滑轮（19），所述滑轮（19）的外侧与溅射壳（2）内腔的两侧相接触。

3.根据权利要求1或2中任意一项所述的一种刻蚀均匀的磁控溅射台，其特征在于：所述正反螺杆（14）的两侧均套接有轴承座（20），所述轴承座（20）的外侧通过螺栓与底座（9）内腔的两侧连接。

4.根据权利要求1所述的一种刻蚀均匀的磁控溅射台，其特征在于：所述底座（9）内腔底部的两侧均开设有滑槽（21），所述滑槽（21）的内腔滑动连接有滑块（22），所述滑块（22）的顶部与螺套（15）的底部焊接。

5.根据权利要求1所述的一种刻蚀均匀的磁控溅射台，其特征在于：所述外壳（4）的内腔竖向焊接有滑杆（23），所述滑杆（23）的表面滑动连接有滑套（24），所述滑套（24）的内侧与支撑板（7）的外侧焊接。

6.根据权利要求5所述的一种刻蚀均匀的磁控溅射台，其特征在于：所述滑杆（23）表面的底部套设有弹簧（25），所述弹簧（25）的底部通过螺栓与外壳（4）内腔的底部连接，所述弹簧（25）的顶部通过螺栓与滑套（24）的底部连接。