[实用新型]一种具有均匀分散喷头的坩埚盖有效
申请号: | 202121165323.8 | 申请日: | 2021-05-27 |
公开(公告)号: | CN214830626U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 陈景升;张正才;岳彩玉 | 申请(专利权)人: | 江苏微迈思半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 周鑫 |
地址: | 221000 江苏省常州市经济技术开*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有均匀分散喷头的坩埚盖,涉及坩埚技术领域,具体为一种具有均匀分散喷头的坩埚盖,包括坩埚盖本体、坩埚本体,所述坩埚盖本体的表面开设有喷头孔。该具有均匀分散喷头的坩埚盖,通过喷头孔、第一盖板、第二盖板、第三盖板和堵头的配合使用,当需要进行喷镀时,根据蒸镀材料的大小,从而选择性取走第三盖板、第二盖板或第一盖板,带动堵头从喷头孔的内腔抽出,从而漏出合适的喷头大小,避免了传统的具有均匀分散喷头的坩埚盖不能根据实际需要调整喷头的使用区域,导致喷镀蒸气喷镀到喷镀材料其它区域的问题,提高了该具有均匀分散喷头的坩埚盖的实用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 均匀 分散 喷头 坩埚 | ||
【主权项】:
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