[实用新型]一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘有效

专利信息
申请号: 202121031570.9 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN214642752U 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 李维民 申请(专利权)人: 深圳杰明纳微电子科技有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/16;B24B37/34;B24B57/04
代理公司: 滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙) 34167 代理人: 洪余节
地址: 518110 广东省深圳市龙华*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘,包括研磨盘本体,研磨盘本体两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔,研磨盘本体顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒。该清洁和抛光用氧化铈研磨盘上网格状凹槽内放置的超细纤维通过静电吸附,使研磨盘工作时产生的灰尘吸附在网格状凹槽内,减少灰尘的飘散,同时放置盒内提前放置好氧化铈抛光粉,在使用时自动的撒落,减少操作人员接触抛光粉的次数,工作者的身心安全,研磨盘两面均可使用,研磨盘一面损坏可以换取另一面接着使用,减少更换研磨盘的次数,从而提高工作效率,以及降低工具购买成本。
搜索关键词: 一种 清洁 抛光 氧化 研磨
【主权项】:
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