[实用新型]一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘

权利要求书

1.一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体(1)，其特征在于：所述研磨盘本体(1)两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽(11)以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔(5)，所述研磨盘本体(1)顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒(2)。

2.根据权利要求1所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述网格状凹槽(11)的深度为所述研磨盘本体(1)的1/10-3/10以及宽度为1-2.5mm。

3.根据权利要求1所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述放置盒(2)包括封盖(21)和收集盒(22)，所述封盖(21)顶部对称设置有进入口(3)，所述进入口(3)螺纹配合设置有无头螺丝，所述收集盒(22)内部底面上沿放置盒(2)中心呈圆形陈列分布渗孔(8)。

4.根据权利要求3所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述收集盒(22)内部底面上设置有遮挡渗孔(8)的渗布(7)，所述收集盒(22)底面上设置有胶圈。

5.根据权利要求1所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述放置盒(2)的顶部设置有螺栓(6)，所述螺栓(6)底部贯穿放置盒(2)并延伸至与所述放置盒(2)相对一侧的阶梯孔(5)内、且阶梯孔(5内设置有螺母螺纹配合锁紧。

6.根据权利要求5所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述放置盒(2)底部设置有与阶梯孔(5)相配合填充块(4)，所述填充块(4)中心开设有螺栓(6)通过的过孔。