[实用新型]一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘有效

专利信息
申请号: 202121031570.9 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN214642752U 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 李维民 申请(专利权)人: 深圳杰明纳微电子科技有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/16;B24B37/34;B24B57/04
代理公司: 滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙) 34167 代理人: 洪余节
地址: 518110 广东省深圳市龙华*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 抛光 氧化 研磨
【说明书】:

实用新型公开了一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘,包括研磨盘本体,研磨盘本体两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔,研磨盘本体顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒。该清洁和抛光用氧化铈研磨盘上网格状凹槽内放置的超细纤维通过静电吸附,使研磨盘工作时产生的灰尘吸附在网格状凹槽内,减少灰尘的飘散,同时放置盒内提前放置好氧化铈抛光粉,在使用时自动的撒落,减少操作人员接触抛光粉的次数,工作者的身心安全,研磨盘两面均可使用,研磨盘一面损坏可以换取另一面接着使用,减少更换研磨盘的次数,从而提高工作效率,以及降低工具购买成本。

技术领域

本实用新型涉及研磨盘领域,具体为一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘。

背景技术

氧化铈抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,与传统抛光粉—铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完成的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。所以,稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物,是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。但是氧化铈稀土元素的盐能降低凝血酶原的含量,使其失活,并抑制凝血活素的生成,使纤维蛋白原沉淀,催化分解磷酸化合物,稀土元素的毒性随原子量增加而减弱。

使用氧化铈抛光粉抛光时会产生大量的灰尘,灰尘中会含有大量的铈粉尘和玻璃封尘,经过呼吸,那些小的粉尘可能会进入肺并沉积在肺中,久而久之有可能造成尘肺,其氯化物对皮肤有损伤,能刺激眼睛的黏膜。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘,减少抛光过程中灰尘的飘散,自动缓慢撒抛光粉,减少工作人员接触氧化铈的次数。

为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘,包括研磨盘本体,所述研磨盘本体两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔,所述研磨盘本体顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒。

作为优选,所述网格状凹槽的深度为所述研磨盘本体的1/10-3/10以及宽度为1-2.5mm。

作为优选,所述放置盒包括封盖和收集盒,所述封盖顶部对称设置有进入口,所述进入口螺纹配合设置有无头螺丝,所述收集盒内部底面上沿放置盒中心呈圆形陈列分布渗孔。

作为优选,所述收集盒内部底面上设置有遮挡渗孔的渗布,所述收集盒底面上设置有胶圈。

作为优选,所述放置盒的顶部设置有螺栓,所述螺栓底部贯穿放置盒并延伸至与所述放置盒相对一侧的阶梯孔内、且阶梯孔内设置有螺母螺纹配合锁紧。

作为优选,所述放置盒底部设置有与阶梯孔相配合填充块,所述填充块中心开设有螺栓通过的过孔。

在上述技术方案中,本实用新型提供的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘,网格状凹槽内放置的超细纤维通过静电吸附,使研磨盘工作时产生的灰尘吸附在网格状凹槽内,减少灰尘的飘散,同时放置盒内提前放置好氧化铈抛光粉,在使用时自动的撒落,减少操作人员接触抛光粉的次数,工作者的身心安全,研磨盘两面均可使用,研磨盘一面损坏可以换取另一面接着使用,减少更换研磨盘的次数,从而提高工作效率,以及降低工具购买成本。

应当理解,前面的一般描述和以下详细描述都仅是示例性和说明性的,而不是用于限制本公开。

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附图说明

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