[实用新型]一种可保持X光射线测厚仪测量头清洁度的下盖有效

专利信息
申请号: 202120898041.2 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN214767468U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 李友林;于淼 申请(专利权)人: 大连英奇科技发展有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B13/00;G01B15/02
代理公司: 沈阳工匠智诚知识产权代理事务所(普通合伙) 21256 代理人: 孙楠
地址: 116000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种可保持X光射线测厚仪测量头清洁度的下盖,其涉及测厚仪技术领域,包括下盖底盘,所述下盖底盘上固定安装有下盖连接柱,所述下盖连接柱侧壁开设有螺纹槽,所述下盖连接柱与所述下盖底盘中心位置开设有T形口,所述下盖连接柱中心且位于所述T形口上端固定安装有卡盘,所述卡盘下壁固定安装有测厚器,所述测厚器下端固定安装有感应器,所述测厚器贯穿于所述T形口内,所述卡盘中心位置开设有贯穿口,本实用新型中可调节的防护箱不仅与下盖紧密的安装在一起,占用空间小,给工作人员使用提供了极大的便利,而且还对X光射线测厚仪测量头保持清洁,保证装置清洁度,保持装置的使用寿命。
搜索关键词: 一种 保持 射线 测厚仪 测量 清洁
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