[实用新型]一种真空离子镀膜设备有效
| 申请号： | 202120881675.7 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN215251131U | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 侯兴刚;王国梁 | 申请（专利权）人： | 天津师范大学;广东省广新离子束科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 张天一 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种真空离子镀膜设备，包括真空腔体，真空腔体内包括电机、转盘、旋转立柱、支架和转轴，支架包括上支架和下支架，上支架倾斜向上，上支架上均匀设置有矩形凸起，下支架水平设置在旋转立柱上，下支架上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起，旋转立柱内沿竖直方向开有滑槽和卡槽，卡槽设置在滑槽的外部，滑槽内设置有滑块，卡槽内设置卡块，滑块通过外侧的轴穿过卡块与下支架连接；本实用新型真空离子镀膜设备采用上下支架进行竖直方向上的拉伸卡接，能够将矩形电镀件的两端完全进行固定卡接，不用担心矩形电镀件存在自由端互相进行干涉，进而在提高电镀件数量的同时，不会产生电镀件的互相碰撞。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 离子 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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