[实用新型]一种真空离子镀膜设备

权利要求书

1.一种真空离子镀膜设备，其特征在于：包括真空腔体，所述真空腔体内包括电机、转盘、旋转立柱、支架和转轴，所述电机设置在所述真空腔体的底部，所述电机上部设置有转盘，所述转轴设置在所述真空腔体的顶部，所述转轴下方设置有转盘，所述电机的主轴与所述转轴设置在同一直线上，所述转盘之间设置有多个旋转立柱，所述旋转立柱上设置有多组支架；

所述支架包括上支架和下支架，所述上支架倾斜向上，所述上支架上均匀设置有矩形凸起，所述下支架水平设置在所述旋转立柱上，所述下支架上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起，所述旋转立柱内沿竖直方向开有滑槽和卡槽，所述卡槽设置在所述滑槽的外部，所述滑槽内设置有滑块，所述卡槽内设置卡块，所述滑块通过外侧的轴穿过所述卡块与所述下支架连接。

2.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述矩形凸起沿水平方向设置在所述上支架上。

3.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述矩形凸起沿竖直方向设置在所述上支架上。

4.根据权利要求1或2所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述所述卡块为矩形卡块，所述卡块的长度与所述卡槽的宽度相等，所述卡块的两端还设置有弧形橡胶块。

5.根据权利要求4所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述卡块与所述下支架之间还设置有旋钮，所述卡块的两侧还设置有卡孔，所述旋钮上设置有与所述卡块配合的凸起，所述旋钮通过凸起与所述卡块贴合连接。

6.根据权利要求1或5所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述旋转立柱的四周设置有多组所述滑槽和卡槽。

7.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述卡槽的宽度小于所述滑槽的宽度，所述卡槽与所述滑槽连通设置。

8.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述上支架的外端与所述下支架的外端距离所述旋转立柱的距离相同。

9.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述下支架能够在相邻的所述上支架之间滑动。