[实用新型]一种用于抛光和研磨的基准块结构有效
| 申请号： | 202120874632.6 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN215433161U | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 寇明虎 | 申请（专利权）人： | 北京特思迪设备制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101300 北京市顺义区顺*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：该结构包括基准块和固定螺栓，其中所述固定螺栓固定安装在磨盘的中心位置处，所述固定螺栓上端中心位置处设置有安装槽，所述基准块固定安装在固定螺栓的凹槽内，所述基准块材质采用人造金刚石PCD材质，所述固定螺栓的安装槽底面上设置有若干个下凹的凹槽。避免了加工因旋转摩擦导致的破损和划伤传感器探测头，解决了目前传感器探测头与基准块摩擦导致的磨损情况，延长了传感器探测头的使用寿命，同时提高了检测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 研磨 基准 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京特思迪设备制造有限公司，未经北京特思迪设备制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202120874632.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
