[实用新型]一种用于抛光和研磨的基准块结构有效
| 申请号： | 202120874632.6 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN215433161U | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 寇明虎 | 申请（专利权）人： | 北京特思迪设备制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101300 北京市顺义区顺*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 研磨 基准 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：该结构包括基准块和固定螺栓，其中所述固定螺栓固定安装在磨盘的中心位置处，所述固定螺栓上端中心位置处设置有安装槽，所述基准块固定安装在固定螺栓的凹槽内，所述基准块材质采用人造金刚石PCD材质，所述固定螺栓的安装槽底面上设置有若干个下凹的凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：所述基准块焊接在所述固定螺栓上端中心位置处的安装槽上。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：所述基准块与所述固定螺栓的安装槽四周设置有间隙。
4.根据权利要求3所述的一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：所述基准块的上表面与所述固定螺栓头部的下端面的平行度为1-3μmm。
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