[实用新型]一种镀膜匀称的镀膜构件有效
申请号: | 202120838110.0 | 申请日: | 2021-04-22 |
公开(公告)号: | CN214655226U | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 邓韦伟;刘俊杰 | 申请(专利权)人: | 福州欧冶光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54 |
代理公司: | 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 44728 | 代理人: | 刘英 |
地址: | 350007 福建省福州市仓山区建新镇*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及镀膜设备技术领域,且公开了一种镀膜匀称的镀膜构件,包括加工箱,加工箱的内部平行设置有基片,所述加工箱的内部下端通过轴承活动安装有驱动件,驱动件与基片呈上下平行设置,驱动件上等距固定安装有多组密封旋转装置,所述加工箱的外壁面固定安装有内部设置电机的电机箱。本实用新型中,冷却液可以继续在冷却液流动管一、连接软管、冷却液流动管二和滑动管的内部流动,由于冷却液流动管一、连接软管和冷却液流动管二呈伸展状态,这时冷却液流动管一、连接软管、冷却液流动管二内部的冷却液可以快速流动,使得基片可以快速冷却下来,大大提高了镀膜后的冷却时间,达到了提高了冷却效率的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 匀称 构件 | ||
【主权项】:
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