[实用新型]一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置有效

专利信息
申请号: 202120774437.6 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN214598413U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 李文瀚;杨同勇;郭锁柱;凌峥 申请(专利权)人: 三达奥克化学股份有限公司
主分类号: B01F7/16 分类号: B01F7/16;B01F15/00
代理公司: 大连优路智权专利代理事务所(普通合伙) 21249 代理人: 宋春昕
地址: 116000 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置,包括混料桶、支撑架和上盖,所述混料桶外侧的上端设有进料口,并且底部设有出料口,所述混料装置还包括:至少两个第一板体;至少两个第二板体;驱动组件。本实用新型中,第一板体上设置有通孔和螺旋桨,第二板体上设置有过滤网,本装置在运行时螺旋桨随着第一板体的旋转受到液体流动产生的推力而旋转,起到搅拌的作用,过滤网随着第二板体的旋转,推动较大的固体原料移动,同时液体原料可以从过滤网的网眼中流过,促进固液原料的混合,故通过本装置有助于提高混合的速度以及均匀性。
搜索关键词: 一种 光刻 残留物 洗剂 生产 用混料 装置
【主权项】:
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