[实用新型]一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置有效

专利信息
申请号: 202120774437.6 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN214598413U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 李文瀚;杨同勇;郭锁柱;凌峥 申请(专利权)人: 三达奥克化学股份有限公司
主分类号: B01F7/16 分类号: B01F7/16;B01F15/00
代理公司: 大连优路智权专利代理事务所(普通合伙) 21249 代理人: 宋春昕
地址: 116000 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 残留物 洗剂 生产 用混料 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置,包括混料桶、支撑架和上盖,所述混料桶外侧的上端设有进料口,并且底部设有出料口,所述混料装置还包括:至少两个第一板体;至少两个第二板体;驱动组件。本实用新型中,第一板体上设置有通孔和螺旋桨,第二板体上设置有过滤网,本装置在运行时螺旋桨随着第一板体的旋转受到液体流动产生的推力而旋转,起到搅拌的作用,过滤网随着第二板体的旋转,推动较大的固体原料移动,同时液体原料可以从过滤网的网眼中流过,促进固液原料的混合,故通过本装置有助于提高混合的速度以及均匀性。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶清洗剂加工设备技术领域,尤其涉及一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置。

背景技术

在集成电路、超大规模集成电路的制造工艺中,使用光刻胶在晶圆上形成导电层图案是非常重要的一道工序。一般是用光刻胶均匀涂抹在绝缘膜或金属膜上,经曝光、显影后在光刻胶上形成导电层图像,然后再利用光刻胶作为掩模,对绝缘膜或金属膜进行蚀刻,以在晶圆上形成导电层,最后再除去光刻胶。

清洗剂在加工时需要将多种原料混合搅拌,由于原料有固态也有液态,常规的混料装置在加工时存在混合速度慢、不均匀的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于:为了解决上述问题,而提出的一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置,包括混料桶、支撑架和上盖,所述混料桶外侧的上端设有进料口,并且底部设有出料口,所述混料装置还包括:

至少两个第一板体,所述第一板体上具有多个用于搅拌清洗剂的搅拌件;

至少两个第二板体,所述第二板体上具有过滤网;

驱动组件,所述驱动组件用于带动第一板体和第二板体绕混料桶的轴向方向反向旋转。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述驱动组件包括驱动件以及齿轮组件,所述齿轮组件由依次啮合的驱动齿轮、传动齿轮以及从动齿轮组成,所述从动齿轮为环形结构,所述驱动齿轮和传动齿轮位于从动齿轮的内侧。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述驱动齿轮与驱动件的输出端固定连接,并且驱动齿轮的底部固定连接有第二杆体,所述第二板体与第二杆体固定连接,并且第二板体沿混料桶的径向方向延伸。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述从动齿轮的外侧固定连接有第一杆体,且第一杆体沿混料桶的径向方向延伸,所述第一杆体与第一板体固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述第一板体与第一杆体之间具有30-60°的夹角。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述搅拌件为螺旋桨,所述第一板体上具有与螺旋桨水平对齐的通孔。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述混料桶的内壁上具有环形的滑槽,所述第一板体靠近混料桶内壁的一侧具有与滑槽配合的凸起。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述过滤网的网眼内径为1-2mm。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:

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