[实用新型]一种抛光载盘清洗存储设备有效

专利信息
申请号: 202120402414.2 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN214817691U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 徐全 申请(专利权)人: 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
主分类号: B24B37/27 分类号: B24B37/27;B24B37/34
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;顾春天
地址: 710065 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备,用于清洗并存储抛光载盘,其特征在于,包括壳体,所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷,所述支撑结构用于固定抛光载盘,所述清洁刷对应所述支撑结构设置,且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘,对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组,且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。本实用新型实施例通过设置清洁刷,对位于支撑结构上的抛光载盘的两侧进行清洗,以去除抛光载盘表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物,提高抛光载盘的清洁度,有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。
搜索关键词: 一种 抛光 清洗 存储 设备
【主权项】:
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