[实用新型]一种抛光载盘清洗存储设备

说明书

本实用新型实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，其特征在于，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。本实用新型实施例通过设置清洁刷，对位于支撑结构上的抛光载盘的两侧进行清洗，以去除抛光载盘表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物，提高抛光载盘的清洁度，有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种抛光载盘清洗存储设备。

背景技术

硅片等半导体加工过程中，需要进行双面研磨以提高半导体的质量，双面研磨过程中，通常需要将半导体设置于抛光载盘上，然后在双面研磨设备上进行研磨。而研磨液及研磨下来的硅片碎屑可能残留并附着于抛光载盘表面，这样，抛光载盘表面可能存在残留物，并对后续的半导体加工过程造成影响。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种抛光载盘清洗存储设备，以解决抛光载盘表面可能存在残留物，对半导体加工过程造成影响的问题。

本实用新型实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。

可选的，所述清洁刷包括刷体和设置于所述刷体表面的刷毛，所述刷体设置有所述刷毛的一侧还设置有距离传感器，所述距离传感器用于检测所述刷体和抛光载盘之间的距离。

可选的，所述刷体呈圆柱形，所述刷毛环绕所述刷体设置，其中，所述刷体的直径为4至7厘米，所述刷毛的长度为0.5至1厘米。

可选的，还包括驱动组件，所述清洁刷与所述驱动组件相连，所述驱动组件用于带动所述清洁刷自转和移动。

可选的，还包括设置于所述壳体内的清洁喷头，所述清洁喷头对应所述支撑结构设置，所述清洁喷头用于喷洒清洁液以清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘。

可选的，所述壳体内还设置有溢流槽，所述溢流槽与所述壳体的底部之间的壳体为密封结构，所述清洁喷头还用于在存储抛光载盘时，持续向所述壳体内注入清洁液。

可选的，所述清洁喷头分别固定于所述壳体的顶部和底部。

可选的，还包括可自转的转盘，所述转盘设置于所述壳体内，所述清洁喷头固定于所述转盘上，以在所述转盘的带动下随所述转盘转动。

可选的，还包括可自转的转盘，所述转盘设置于所述壳体内，所述支撑结构包括多个吊钩，所述吊钩固定于所述转盘上，以在所述转盘的带动下随所述转盘转动。

本实用新型实施例通过设置清洁刷，对位于支撑结构上的抛光载盘的两侧进行清洗，以去除抛光载盘表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物，提高抛光载盘的清洁度，有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本实用新型一实施例提供的抛光载盘清洗存储设备的结构图

具体实施方式