[实用新型]一种掩膜版后处理用夹具有效
| 申请号： | 202120333400.X | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN214098107U | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 甄华彪;魏晖;张华超;葛翔 | 申请（专利权）人： | 合肥清溢光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 夏舜 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板；本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对6寸和20*24等小尺寸的掩膜版进行清洗的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版后 处理 夹具 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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