[实用新型]一种掩膜版后处理用夹具

说明书

本实用新型公开了一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板；本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对6寸和20*24等小尺寸的掩膜版进行清洗的问题。

技术领域

本实用新型属于掩膜版加工夹具领域，更具体的说涉及一种掩膜版后处理用夹具。

背景技术

掩膜版后处理用夹具是指用于半导体光刻掩膜版显影、蚀刻、清洗时的夹具。现有技术中，常规的掩膜版后处理用显影、蚀刻、清洗机最小只能制造520*610尺寸的掩膜版，显影、蚀刻、清洗机无法处理6寸和20*24尺寸的掩膜版，只能将6寸和20*24等小尺寸的掩膜版放在手工槽(类似矩形的储水容器)内，然后放入显影液、蚀刻液等利用浸泡的方式显影蚀刻，再手动利用硫酸脱模清洗。这种方法没有专业设备显影、蚀刻、清洗作出的产品稳定，也无法保证洁净度，作业人员也因为会接触到化学药液，会对人员构成一定潜在的风险。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对小尺寸或特殊尺寸的掩膜版进行清洗的问题。

本实用新型技术方案一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；

还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板。

优选地，所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面与其同侧的承托板表面间距离不小于掩膜版厚度。

优选地，与所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面同侧的承托板表面与掩膜版表面齐平。

优选地，所述承托板上设置有操作区，所述操作区包括至少两缺口槽，所述缺口槽与清洗槽边沿连接。

优选地，所述固定槽设置有五个，其中四个固定槽呈正证排列设置，另一固定槽设置在呈正矩阵排列的四固定槽中心位置。

优选地，所述固定基板和所述承托板材质均由铝合金材料制成，铝合金表面镀有0.5mm厚的特氟龙防腐涂层。

本实用新型技术方案的一种掩膜版后处理用夹具的有益效果是：

1、通过承托板改变现有技术中与显影、蚀刻、清洗机不相适应的掩膜版清洗的问题；通过掩膜版顶角避让圆弧的设计，避免在清洗中掩膜版顶角被损坏的问题。

2、在固定基板上设置不同位置的若干承托板，一方面提高工作效率，最主要的是能够增加一次工作对比项，便于对处理的掩膜版进行参数验证，提高掩膜版处理质量。

附图说明

图1为本技术方案的一种掩膜版后处理用夹具中单个夹具结构示意图，

图2为图1的主视图，

图3为掩膜版在掩膜版后处理用夹具上安装示意图，

图4为本实用新型技术方案的一种掩膜版后处理用夹具结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型技术方案，现结合说明书附图对本实用新型技术方案做进一步的说明。

如1图和图4所示，本实用新型技术方案一种掩膜版后处理用夹具，包括一固定基板6，固定基板6上均布设置有若干固定槽7，固定槽7内可拆卸固定有承托板1。