[实用新型]一种可调节式多级晶圆对位装置有效
申请号: | 202120063897.8 | 申请日: | 2021-01-12 |
公开(公告)号: | CN214175994U | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 孙进;马昊天;刘芳军;杨志勇 | 申请(专利权)人: | 扬州大学;扬州思普尔科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/683 |
代理公司: | 扬州苏中专利事务所(普通合伙) 32222 | 代理人: | 周青;许春光 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种可调节式多级晶圆对位装置,其特征是,包括机箱、吸盘、红外传感器、相对布置的一对固定件,所述吸盘安装于机箱顶部中心位置,所述红外传感器安装于机箱一侧,用于感测晶圆的平缺口;一对固定件分别安装于吸盘两侧,用于固定吸盘处的晶圆。通过套筒对晶圆片进行中心定位,红外线传感器可通过调节螺母调节与吸盘中心的距离,可实现对多规格的晶圆片进行定位操作。固定件处装有柔性材料制成的套筒,减少对晶圆片的作用力,对晶圆片的作用力小,减少晶圆片的受损。本实用新型与现有技术相比较体现了其结构简单、可对多规格的晶圆片进行定位、对晶圆损伤较小等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 调节 多级 对位 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造