[发明专利]耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法在审
| 申请号： | 202111650156.0 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114236965A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 陈韦帆;黄巍;徐亮;季昌彬 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 李鑫伟 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请涉及光刻胶的领域，具体公开了一种耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法。耐刻蚀KrF光刻胶，包括成膜树脂，所述成膜树脂包括羟基苯乙烯‑苯乙烯‑丙烯酸叔丁酯‑丙烯酸铝四元共聚物。耐刻蚀KrF光刻胶的制备方法，包括：取成膜树脂溶于光刻胶溶剂中；取光致酸产生剂、有机碱加入溶有所述成膜树脂的光刻胶溶剂中，混合均匀，得到光刻胶粗品；将所述光刻胶粗品通过聚四氟乙烯膜过滤，而得到光刻胶成品。本申请所得光刻胶表现出良好的光刻精度和理想的耐刻蚀性。本申请通过含金属铝的丙烯酸化合物和羟基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯的共聚和协同配合，利用金属铝的保护作用，能够有效地提高成膜树脂的耐刻蚀能力。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 krf 光刻 制备 方法 | ||
【主权项】：
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