[发明专利]耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法在审
| 申请号： | 202111650156.0 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114236965A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 陈韦帆;黄巍;徐亮;季昌彬 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 李鑫伟 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 krf 光刻 制备 方法 | ||
1.耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：包括成膜树脂，所述成膜树脂包括羟基苯乙烯-苯乙烯-丙烯酸叔丁酯-丙烯酸铝四元共聚物。
2.根据权利要求1所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述羟基苯乙烯-苯乙烯-丙烯酸叔丁酯-丙烯酸铝四元共聚物由羟基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯以及丙烯酸铝按质量比为10：(2.5-4)：(1-2)：(1-2)共聚而成。
3.根据权利要求2所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述羟基苯乙烯-苯乙烯-丙烯酸叔丁酯-丙烯酸铝四元共聚物由以下方法制得：
按配方取羟基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯以及丙烯酸铝并加入有机溶剂中混合均匀形成混合液，将所述混合液降温到0-5℃；
在氮气氛下，向所述混合液中加入引发剂；之升温到70-90℃，反应至少10h，得到反应液；
在常温常压下，将所述反应液加入水中，沉降化合物，收集固体产物；将固体产物干燥得到成品。
4.根据权利要求3所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述有机溶剂为乙醇。
5.根据权利要求3所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述引发剂为偶氮二异丁酸二甲酯。
6.根据权利要求1所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：包括成膜树脂100质量份、光致酸产生剂1-5质量份、有机碱0.5-2质量份以及光刻胶溶剂300-700质量份。
7.根据权利要求6所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述有机碱为有机胺及其盐。
8.根据权利要求7所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述有机碱为丙烯酰胺、苯二胺、1-萘胺、二甲胺盐酸盐、二乙胺盐酸盐、间苯二胺硫酸盐中的至少一种。
9.根据权利要求6所述的耐刻蚀KrF光刻胶，其特征在于：所述光刻胶溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、二丙二醇甲醚、环己酮中的一种。
10.耐刻蚀KrF光刻胶的制备方法，其特征在于：包括：
取成膜树脂溶于光刻胶溶剂中，所述成膜树脂包括羟基苯乙烯-苯乙烯-丙烯酸叔丁酯-丙烯酸铝四元共聚物；
取光致酸产生剂、有机碱加入溶有所述成膜树脂的光刻胶溶剂中，混合均匀，得到光刻胶粗品；
将所述光刻胶粗品通过聚四氟乙烯膜过滤，而得到光刻胶成品。
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