[发明专利]化学机械抛光设备的调度方法、装置及化学机械抛光设备在审

专利信息
申请号: 202111625689.3 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114219355A 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 贾若雨;杨旭;孟晓云;刘志伟;周庆亚;李久芳;白琨 申请(专利权)人: 北京烁科精微电子装备有限公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q50/04
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 林韵英
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了化学机械抛光设备的调度方法、装置及化学机械抛光设备,抛光设备包括双侧传递的多个抛光头,该方法包括:获取多个抛光头的调度流程;从调度流程中提取多个抛光头在下一时刻的动作执行信息;根据动作执行信息筛选在下一时刻存在位置重叠的抛光头;根据存在位置重叠抛光头所执行动作的优先级对存在位置重叠的抛光头所对应的调度流程进行调整。本发明通过对抛光头的行为动作进行预判从而调整的调度流程,有效避免了因抛光头工作协调问题可能发生的撞击问题,同时双侧多抛光头可以通过多种组合方式按照调度流程执行动作,有效提高了晶圆在抛光过程中的动作执行效率。
搜索关键词: 化学 机械抛光 设备 调度 方法 装置
【主权项】:
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