[发明专利]一种基于均方根误差的光学星上处理目标定位精度评估方法有效

专利信息
申请号: 202111593209.X 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114383632B 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 吴志刚;刘锋;孙鹏博;周鑫;胡晓宁;宛雄丰 申请(专利权)人: 北京市遥感信息研究所
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 王迪
地址: 100192 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种基于均方根误差的光学星上处理目标定位精度评估方法,属于遥感卫星星上处理技术领域,该方法先提取遥感卫星星上处理目标切片中心点坐标作为该目标位置坐标,提取同一颗遥感卫星同时获取的地面处理相同目标中心点坐标,确定目标切片中心点坐标与目标中心点坐标的纵向误差和横向误差,再根据星上处理目标切片与同时获取的相应地面处理目标为同一目标的关系,确定纵向误差和横向误差的均方根误差;之后评估第一数据集的定位精度,实现了利用同一颗遥感卫星已知目标定位精度的地面处理数据对未知定位精度的星上处理目标切片数据,基于相同目标点误差的定位精度评估,用于遥感卫星星上处理切片数据的目标定位精度快速自动评估。
搜索关键词: 一种 基于 方根 误差 光学 处理 目标 定位 精度 评估 方法
【主权项】:
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