[发明专利]一种3D膜的制备方法及装置有效
| 申请号： | 202111590429.7 | 申请日： | 2021-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN114311088B | 公开（公告）日： | 2023-08-11 |
| 发明（设计）人： | 董家亮;鲜成波;韩岩辉;王华波;杨枫;魏厚伟;洪晓明;顾开宇 | 申请（专利权）人： | 宁波维真显示科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B26D3/08 | 分类号： | B26D3/08;B26D7/27 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 岳泉清 |
| 地址： | 315105 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种3D膜的制备方法及装置，属于3D显示领域，本发明为解决现有1/2相位差补偿膜制备工艺存在的问题。本发明方法包括以下步骤：S1、1/2相位差补偿膜雕刻步骤：带有保护膜的1/2相位差补偿膜通过送料辊输送至磁性辊筒处，利用雕刻辅助层与磁性辊筒的磁吸性能将1/2相位差补偿膜固定在磁性辊筒表面，所述雕刻辅助层为半圆铁罩，且保护膜靠近雕刻辅助层；利用雕刻刀具同步在雕刻辅助层、保护膜及1/2相位差补偿膜微雕实现1/2相位差补偿膜的图案化处理；S2、偏振片与图案化处理后的1/2相位差补偿膜复合步骤；S3、1/2相位差补偿膜的保护膜回收步骤；S4、偏振片、1/2相位差补偿膜和AG膜的复合成3D膜的步骤。本发明将微雕技术应用于3D膜的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
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