[发明专利]一种快捷的晶片清洁工艺在审

专利信息
申请号: 202111584638.0 申请日: 2021-12-22
公开(公告)号: CN114308863A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 钟兴进;何淑英;罗长诚 申请(专利权)人: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67
代理公司: 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 代理人: 邱冬新
地址: 511300 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及晶片清洁设备技术领域,具体为一种快捷的晶片清洁工艺,包括工作箱,所述工作箱包括壳身以及壳盖,所述壳身顶端设置工作槽,所述壳盖底端与工作槽侧壁对应位置设置安装槽,所述安装槽侧壁设置限位装置,所述壳盖底端设置调节槽,所述调节槽内滑动设置调节块,所述调节槽槽底左右两侧分别设置螺纹杆,所述调节块顶端与螺纹杆对应位置设置螺纹孔,所述螺纹杆通过螺纹配合伸入螺纹孔内,所述壳盖顶端与螺纹杆对应位置设置调节电机,所述调节电机输出端与螺纹杆连接,通过搅拌杆以及搅拌电机的设置,便于带动清洗液流动,将脱离晶片表面的杂质带走,提升清洁效果。
搜索关键词: 一种 快捷 晶片 清洁 工艺
【主权项】:
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