[发明专利]一种钼合金溅射靶材的制备工艺在审
| 申请号： | 202111563484.7 | 申请日： | 2021-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN114293160A | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 张雪凤;李帅方;方宏;陈亚光;宁来元;郭雅俊 | 申请（专利权）人： | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F5/00;C22C27/04 |
| 代理公司： | 广东众达律师事务所 44431 | 代理人： | 张雪华 |
| 地址： | 471000 河南省洛阳市中国(*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明属于高温难熔金属靶材制备领域，具体涉及一种钼合金溅射靶材的制备工艺，本发明采用粉末冶金方法制备，靶材所用原料包含合计原子百分比0.5％‑‑40％的Ga、Ni、Nd元素组中的至少一种元素和原子比0.5％‑‑40％的Ti作为掺杂金属，余量为Mo和不可避免的杂质；本发明经过原料配比、原料混合、胶套装粉定型、冷等静压作业、热等静压作业、热轧作业和机加工作业，得到最终所需产品尺寸；本发明工艺步骤简单，操作便捷，制备的钼合金溅射靶材耐氧化性、耐湿性、与PR胶的粘合力等各项技术指标优秀，可满足高端电子产品镀膜领域使用需求，且生产成本低，产品尺寸宽泛，便于工业化批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 合金 溅射 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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