[发明专利]一种DFB半导体激光器在审

专利信息
申请号: 202111537461.9 申请日: 2021-12-15
公开(公告)号: CN114256740A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 张敏明;田琦;刘德明;韩宇 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01S5/125 分类号: H01S5/125;H01S5/22;H01S5/24
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 胡秋萍
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种DFB半导体激光器,属于半导体器件领域,包括:自下往上依次外延生长的n面电极、衬底、n型下包层、有源区、光栅层、p型上包层、脊波导和p面电极,有源区为多量子阱结构;脊波导的两侧刻蚀有彼此对称的沟槽区,沟槽区穿过有源区,用于提高DFB半导体激光器的调制带宽。常温下,双沟槽区通过提高光场限制因子来提高驰豫振荡频率,且降低寄生电容,高温下,双沟槽区通过降低载流子扩散来提高驰豫振荡频率,从而在常温和高温下均能提高调制带宽。制作工艺简单,且沟槽区距离光场较远,不会因含铝材料的刻蚀引发可靠性问题,在不影响激光器性能及可靠性的基础上,提高DFB半导体激光器的调制带宽。
搜索关键词: 一种 dfb 半导体激光器
【主权项】:
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