[发明专利]一种DFB半导体激光器在审
申请号: | 202111537461.9 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN114256740A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 张敏明;田琦;刘德明;韩宇 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01S5/125 | 分类号: | H01S5/125;H01S5/22;H01S5/24 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 胡秋萍 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种DFB半导体激光器,属于半导体器件领域,包括:自下往上依次外延生长的n面电极、衬底、n型下包层、有源区、光栅层、p型上包层、脊波导和p面电极,有源区为多量子阱结构;脊波导的两侧刻蚀有彼此对称的沟槽区,沟槽区穿过有源区,用于提高DFB半导体激光器的调制带宽。常温下,双沟槽区通过提高光场限制因子来提高驰豫振荡频率,且降低寄生电容,高温下,双沟槽区通过降低载流子扩散来提高驰豫振荡频率,从而在常温和高温下均能提高调制带宽。制作工艺简单,且沟槽区距离光场较远,不会因含铝材料的刻蚀引发可靠性问题,在不影响激光器性能及可靠性的基础上,提高DFB半导体激光器的调制带宽。 | ||
搜索关键词: | 一种 dfb 半导体激光器 | ||
【主权项】:
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