[发明专利]一种在PCB用铜箔表面涂覆硅烷偶联剂的工艺有效
申请号: | 202111514123.3 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN114107974B | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 薛奇;李林玲;陈葳;王勇;滕超;章晨 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | C23C22/52 | 分类号: | C23C22/52;C23C22/73;C23C22/77;H05K3/22;G01N21/84;G01N23/2273 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210008 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种在PCB用铜箔表面涂覆硅烷偶联剂的工艺通过对涂覆在PCB用铜箔表面偶联剂层的热处理,使其形成与金属表面化学结合的内层和附着的物理吸附的外层,再利用乙醇/水混合溶剂对其进行洗涤,洗去多余的物理吸附的偶联剂。在热处理和洗涤二道工序过程中,用AFM‑IR检测偶联剂在粗糙面上的空间立体分布,用XPS检测金属表面硅含量的变化,使得铜箔表面的偶联剂用量适当而又分布均匀,避免了在PCB板材界面局部区域堆砌大量的高介电常数的硅羟基化合物,有利于提高PCB板在高温高湿条件下介电性质的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 pcb 铜箔 表面 硅烷偶联剂 工艺 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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